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漩渦氣泵在半導體設備中的作用是什么

更新時間:2025-07-13   點擊次數:37次

漩渦氣泵在半導體設備中的作用是什么

漩渦氣泵在半導體設備中扮演著關鍵角色,其作用體現在提供真空環境、氣體輸送與增壓、工藝氣體管理三大方面,并通過高精度、高穩定性的性能保障半導體制造的潔凈度與工藝可靠性。以下是具體分析:

1.5KW單相漩渦氣泵
一、作用解析
真空環境構建與維持
半導體制造中,真空環境是確保工藝穩定性的基礎。漩渦氣泵通過以下方式實現真空功能:
真空吸附:在晶圓搬運、定位等環節,漩渦氣泵產生穩定負壓,通過真空吸盤固定晶圓,避免機械接觸導致的污染或損傷。例如,在激光雕刻機中,氣泵吸力固定切割物,確保雕刻精度。
真空抽吸:與干式渦旋真空泵結合,抽除工藝腔體內的氣體(如未反應氣體、氣態反應產物),維持高真空度(可達10?1?托),滿足刻蝕、沉積等工藝對潔凈度的嚴苛要求。
氣體輸送與增壓
氣力輸送系統:漩渦氣泵產生高壓氣流,將粉煤灰、塑料原料等散裝物料從儲料罐輸送至干燥系統或注塑機,實現無污染、高效率的物料轉移。在半導體封裝環節,氣泵可輸送焊錫粉等微小顆粒,確保封裝質量。
管道增壓:在半導體廢水處理中,氣泵通過增壓提高水流速度,增強曝氣效果,促進有機物分解,同時防止管道堵塞。
工藝氣體應用
氣體攪拌與均勻化:在電鍍工藝中,漩渦氣泵吹出的氣體攪動電解槽,使電解質流通并驅散水泡,確保電鍍層均勻性。
氣體過濾與凈化:氣泵配合水簾過濾層,帶走空氣中的殘余塵粒,排出潔凈空氣,防止灰塵污染晶圓表面。
二、性能優勢支撐半導體應用
高精度與穩定性
漩渦氣泵采用特殊葉片設計,風壓疊加形成高壓或高吸力,且風量控制穩定性高,滿足半導體工藝對氣體流量、壓力的精確要求。
機械精密度高,運轉部分零件經過精密平衡設計,震動率極低,避免震動對晶圓造成損傷。
潔凈與無油污染
氣泵葉輪與其他部件無接觸摩擦,運行中無油污染,符合半導體制造對潔凈度的標準。
鋁合金材質泵殼和葉輪耐腐蝕性強,可在酸堿等惡劣環境下長期穩定工作,延長設備壽命。
節能與低噪音
采用低噪音直接傳動和內藏式消音裝置,運轉噪音低,改善車間環境。
高壓縮比設計降低能耗,符合半導體行業對節能減排的需求。
三、典型應用場景
晶圓制造
真空吸附與搬運:在光刻、刻蝕等工藝中,氣泵通過真空吸盤固定晶圓,確保工藝精度。
工藝腔體抽真空:與分子泵、冷泵等配合,快速抽除腔體內氣體,維持高真空環境。
封裝測試
氣力輸送:輸送焊錫粉、環氧樹脂等封裝材料,避免機械接觸導致的污染。
氣體攪拌:在塑封工藝中,氣泵攪拌樹脂,確保填充均勻性。
輔助設備
廢水處理:通過增壓曝氣促進有機物分解,同時防止管道堵塞。
潔凈室通風:提供穩定氣流,維持潔凈室壓差和空氣潔凈度。


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